微波与非均匀等离子体相互作用过程中坑子的形成与谐波发射

在稳态的等离子体装置中，利用微波和等离子体的相互作用，模拟了激光等离子体过程，研究了这个非线性相互作用过程中产生的坑子(caviton)，观察了坑子幅度增长，衰减及传播的演化过程。同时利用数值计算求解了在实验条件下的Zakharov方程，得到与实验较为符合的结果。实验测量了在相互作用过程中的二次谐波发射谱，并用参量衰变过程分析了二次谐波的频率红移。     

KTiOPO4晶体纵横模劈裂的喇曼谱

在室温下测量了ＫＴｉＯＰＯ₄单晶的偏振喇曼散射谱，应用９０°散射及背散射得到了各模的峰位值，其中Ｂ₁（ＬＯ）模、Ｂ₂（ＬＯ）模的喇曼谱测量尚未见报道过。根据ＬＯ－ＴＯ劈裂的实验结果，计算出该晶体极化模的有效电荷、振子强度及沿对称轴方向的静态介电常数。 关键词：     

柠檬醛对黄曲霉质膜物理损伤机制的研究

通过反射干涉对比显微技术和快速图像分析技术,捕获细胞质膜外光晕变化和细胞周边边缘激发变化的信息,并采用闪烁本征模式分解测定柠檬醛作用于黄曲霉质膜前后各模式（m=0,1,2）所对应的平均平方振幅<δn2m>、剪切弹性μ和弹性弯曲模量Kc,与理论模式光谱相比,研究柠檬醛损伤质膜的物理机制.结果表明,m=1的平动模式主导了光晕波谱,其平均平方振幅呈双指数衰变,该模式几乎与剪切弹性无关,即μ=0;弹性弯曲模量Kc的最小和最大值分别为9.45×10-18J和5.43×10-17J,与柠檬醛的浓度成正相关性.揭示该醛对黄曲霉质膜的损伤,除改变膜的选择通透性和电导率外,同时使质膜平动模式的平均平方振幅呈双指数衰变,弹性弯曲模量Kc增加,从而降低膜伸缩的弹性.     

PMPS/PMAc相容性与同步互贯聚合物网络的阻尼性能研究

互贯聚合物网络是一种聚合物合金 ,其组分的热力学性质决定组分间的相容性和微相结构 ,从而影响材料的阻尼性能 .采用同步互贯聚合物网络 (SIN)技术制备了一种新型的聚苯基硅氧烷 (PMPS) 聚甲基丙烯酸酯 (PMAc)阻尼材料 ,用DMA和AFM等表征研究了其玻璃化温度转变行为与微观相态结构 .结果表明 ,由相容性好的组分制备的SIN材料阻尼值最高 ,tanδmax 可达 1 4,只有一个玻璃化温度转变峰 ,其微相结构为双相连续 ;组分介于相容与不相容之间时 ,所构成的SIN样品的tanδ≥ 0 3的温度区间最宽 ,可达 170℃ ,微相结构为单相连续 ;由相容性差的组分制得的SIN阻尼材料的内耗峰裂分为两个区间 .PMPS PMAcSIN材料的阻尼性能可以通过调节组分的相容性进行控制 .     

MOCVD生长InP/GaInAsP DBR结构及相关材料特性

采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法InP衬底上成功地制备了GaxIn1-xAsyP1-y/InP交替生长的分布布喇格反射镜(DBR)结构以及与之相关的四元合金GaxIn1-xAsyP1-y和InP外延层。利用X射线衍射、扫描电子显微镜(SEM)、低温光致发光(PL)光谱等测量手段对材料的物理特性进行了表征。结果表明,在InP衬底上生长的InP外延层和四元合金GaxIn1-xAsyP1-y外延层77K光致发光(PL)谱线半峰全宽(FWHM)分别为9.3meV和32meV,说明形成DBRs结构的交替层均具有良好的光学质量。X射线衍射测量结果表明,四元合金GaxIn1-xAsyP1-y外延层与InP衬底之间的相对晶格失配仅为1×10-3。GaxIn1-xAsyP1-y/InP交替生长的DBR结构每层膜的光学厚度约为λ/4n(λ=1.55/μm)。根据多层膜增反原理计算得出当膜的周期数为23时,反射率可达90％。     

一类海-气振子ENSO模型的同伦分析解法

研究了一个ENSO海-气时滞振子模型.利用同伦分析方法,得到了该模型解的近似展开式,通过与特殊情况下的精确解比较,得到的二级近似解具有较高的精度.     

退化中立型微分系统的常数变易公式和通解

本文讨论退化中立型微分系统，将其分成三组系统，定义两种与其相应的基础解，并分别将其通解求出。从而给出退化中立型微分系统的通解以及常数变易公式，最终得出通解的明确表示，完全推广了常微分方程和时滞微分方程的基本理论。     

两参数分数Wiener过程滞后增量有多大

主要讨论了阶为a(0相似文献   

晶体型Interleaver的滤波片

说明了Interleaver的基本原理，分析了晶体型Interleaver的滤波片的原理，以YVO4晶体为例，给出了具体应用的设计思想。     

新生MnO2对直接耐晒蓝脱色的分光光度研究

本文研究了用新生MnO2作吸剂，对水中直接耐晒蓝（B2RL）染料进行脱色的特性，探讨了影响吸附的因素，并给出适宜的吸附条件，在本试验条件下可使B2RL脱色主达95％。